第2版 -- マイケル・A.・リーバーマン/著 -- 丸善 -- 2010.1 -- --

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 状態
県川 川公開 /427.6/21/2010 81411217 図書

資料詳細

タイトル プラズマ/プロセスの原理
タイトルカナ プラズマ プロセス ノ ゲンリ
その他タイトル Principles of plasma discharges and materials processing.2nd ed.
版表示 第2版
著者 マイケル・A.・リーバーマン /著, アラン・J.・リヒテンバーグ /著, 佐藤久明 /訳, 堀勝(1958~) /監修  
著者カナ Lieberman,Michael A, Lichtenberg,Allan J, サトウ,ヒサアキ, ホリ,マサル  
出版地 東京
出版者 丸善  
出版年 2010.1
ページ数 612p
大きさ 26cm
本体価格 18000円
タイトル注記(タイトルに関する注記) 原書注記:Principles of plasma discharges and materials processing.2nd ed.の翻訳 版・書誌的来歴注記:初版:EDリサーチ社2001年刊 文献等:文献あり 索引あり
注記-内容注記 内容紹介:半導体製造装置で使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を、基礎から応用まで解説。得られた解析結果をいかにして適用すればよいか、例題を用いて提示する。
採用分類表 9
採用分類表による分類記号 427.6
ISBN 4-621-08223-2
ISBN13桁 978-4-621-08223-2
一般件名 プラズマ , 薄膜
URL https://www.klnet.pref.kanagawa.jp/winj/opac/switch-detail-iccap.do?bibid=1103853259